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京东方A取得新专利以改善载流子注入不平衡问题

上传时间:2024-02-22阅读次数:编辑:admin

  金融界2024年1月11日消息,据国家知识产权局公告,京东方科技集团股份有限公司取得一项名为“一种发光面板、显示装置和发光面板的制作方法“,授权公告号CN112133843B,申请日期为2020年9月。

  专利摘要显示,本发明公开了一种发光面板、显示装置和发光面板的制作方法,以改善现有技术的发光器件存在载流子注入不平衡的问题。所述发光面板,包括:衬底基板,位于所述衬底基板一侧的至少两层电极层,位于两层所述电极层之间的发光层;至少一层所述电极层在面向所述发光层的一侧具有界面修饰层,所述界面修饰层包括:稠环结构,连接于所述稠环结构背离所述发光层一侧的第一带电基团,连接于所述稠环结构面向所述发光层一侧的第二带电基团,所述第一带电基团和所述第二带电基团的带电性不同,以使所述界面修饰层具有偶极矩,以调节与所述界面修饰层接触的所述电极层的功函数。

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